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命题方式 | 招生单位自命题 | 科目类别 | 初试 |
满分 | 150 | ||
考试性质 | |||
考试方式和考试时间 | |||
试卷结构 | |||
考试内容和要求 | |||
(一)辐射度学与光度学 | |||
辐射度学基本概念与光度学参数。 | |||
(二)激光原理与技术 | |||
(1)光与物质相互作用理论,激光产生条件与基本结构; | |||
(2)激光器基本原理; | |||
(3)激光技术:脉冲技术、选模技术、锁模技术、稳频技术、倍频技术等。 | |||
(4)高斯光束:特性,高斯光束的准直、聚焦与模式匹配,用q参数、ABCD定则分析高斯光束。 | |||
(三)光传输理论与技术 | |||
(1)平面介质光波导理论(射线分析与波动分析); | |||
(2)光纤传播理论与基本特性; | |||
(3)光在电光、声光以及磁光晶体中的传播。 | |||
(四)光调制技术 | |||
(1)光辐射调制方法; | |||
(2)电光调制技术:强度调制(纵向与横向)、位相调制(纵向与横向)、电光偏转技术 | |||
(3)声光调制技术:拉曼奈斯衍射、布拉格衍射,声光调制原理,声光调制器衍射效率分析; | |||
(4)磁光调制技术:旋光效应与磁光效应,法拉第效应,磁光调制器与光隔离器。 | |||
(五)光电探测技术 | |||
(1)光电探测器参数、光电探测方式; | |||
(2)光电探测的物理效应; | |||
(3)常见光电探测器的基本结构与参数。 | |||
(六)光电成像与显示技术 | |||
(1)光电成像原理,CCD成像技术; | |||
(2)液晶显示技术、等离子体显示技术、LED显示技术、电致与场致发光显示技术 | |||
参考书目 | |||
《光电子技术基础(第二版)》,朱京平著,科学出版社,2009。 |
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